1. 역삼 투 시스템을 얼마나 자주 청소해야합니까?
일반적으로 표준화 된 플럭스가 10-15%만큼 감소하거나 시스템 담수화 속도가 10-15%만 감소하거나 작동 압력 및 간 압력 차이가 10-15%증가하면 RO 시스템을 정리해야합니다.
청소 주파수는 시스템 전처리 정도와 직접 관련이 있습니다. SDI15 일 때<3, the cleaning frequency may be 4 times a year; When SDI15 is around 5, the cleaning frequency may need to be doubled, but the cleaning frequency depends on the actual situation of each project site.
2. SDI 란 무엇입니까?
RO/NF 시스템 유입에서 콜로이드 오염을 평가하기위한 현재 효과적인 기술은 유입의 퇴적 밀도 지수 (SDI)를 측정하는 것입니다.이 유입은 RO 설계 전에 결정 해야하는 중요한 매개 변수입니다.
RO/NF의 작동 중에는 정기적 인 측정을 수행해야하며 (지표수의 경우 하루에 2-3 시간) ASTM D 4189-82이 테스트의 표준을 지정합니다.
막 시스템의 입구 조절은 SDI15 값이 5보다 작거나 동일해야한다는 것입니다. SDI 전처리를 줄이기위한 효과적인 기술에는 다중 메디아 필터, 초보자 여과, 미세 여과 등이 포함되어 있습니다. 여과 전에 다 전해질을 추가하면 물리적 여과의 능력을 향상시키고 SDI 값을 감소시킬 수 있습니다.
3. 일반 유입에 역삼 투 과정 또는 이온 교환 과정을 사용해야합니까?
많은 유입 조건에서, 이온 교환 수지 또는 역 삼투압의 사용은 기술적으로 실현 가능하며, 프로세스 선택은 경제적 비교에 의해 결정되어야한다. 일반적으로 소금 함량이 높을수록 경제적 인 역삼 투이며 염 함량이 낮을수록 경제적 인 이온 교환이 더 경제적입니다.
역 삼투압 기술의 광범위한 인기로 인해, 역삼 투+이온 교환 공정 또는 다단 단계 역삼 투+다른 심층 담수화 기술의 조합은 인정되고 경제적으로 합리적인 수처리 솔루션이되었습니다.
4. 삼투 성 막 성분을 일반적으로 몇 년 동안 역전시킬 수 있습니까?
막의 서비스 수명은 화학적 안정성, 구성 요소의 물리적 안정성, 세척성, 수원, 전처리, 청소 빈도, 운영 관리 수준 등에 따라 다릅니다. 경제 분석에 따르면 일반적으로 5 년 이상이 걸립니다.
5. 역삼 투와 나노 여과의 차이점은 무엇입니까?
나노 여과는 역 삼투압과 한외 여과 사이에 위치한 막 기반 액체 분리 기술이다. 역삼 투는 {{{0}}보다 작은 분자량으로 가장 작은 용질을 제거 할 수 있으며, 나노 여과는 약 0.001 미크론의 분자량으로 용질을 제거 할 수 있습니다.
나노 여과는 본질적으로 처리 된 물의 순도가 특히 엄격하지 않은 상황에서 사용되는 저압 역삼 투 방법이다. 나노 여과는 물과 지표수를 잘 처리하는 데 적합합니다.
나노 여과는 역삼 투와 같은 높은 탈염 속도가 필요하지 않지만 경도 성분을 제거하는 능력이 높으며 때로는 "연화 막"이라고도합니다. 나노 여과 시스템은 해당 역삼 투 시스템보다 낮은 작동 압력과 에너지 소비가 낮습니다.
6. 막 기술의 분리 능력은 무엇입니까?
Reverse osmosis is currently the most sophisticated liquid filtration technology. The reverse osmosis membrane intercepts soluble inorganic molecules such as salts and organic compounds with a molecular weight greater than 100. On the other hand, water molecules can freely pass through the reverse osmosis membrane, and the typical removal rate of soluble salts is>95-99%. 작동 압력은 입구 물이 괄호 일 때 7 bar (100 psi)에서 해수가있을 때 69 bar (1000 psi)에 이릅니다.
나노 여과는 1nm (10 angstroms)에서 불순물을 제거하고 200-400보다 큰 분자량으로 유기물을 제거 할 수 있습니다. 가용성 고체의 제거 속도는 20-98%인 반면, 1 단 음이온 (예 : NaCl 또는 CaCl2)을 함유하는 염의 제거 속도는 20-80%입니다. 이성 음이온 (예 : MGSO4)을 함유하는 염의 제거 속도는 90-98%에서 더 높다.
한외 여과는 {{{0}} angstroms (0. 01-0. 1 마이크로 미터)보다 큰 큰 분자에 대한 분리 효과를 갖습니다. 모든 가용성 염과 소분자는 한외 여과막을 통과 할 수 있으며 제거 할 수있는 물질에는 콜로이드, 단백질, 미생물 및 큰 유기 분자가 포함됩니다. 대부분의 한외 여과막의 컷오프 분자량은 1000 ~ 100000입니다.
미세 여과에 의한 입자 제거 범위는 약 0. 1-1 미크론입니다. 일반적으로, 현탁 된 고체 및 큰 콜로이드 입자는 가로 채워질 수 있으며, 큰 분자 및 가용성 염은 미세 여과 막을 자유롭게 통과 할 수있다. 미세 여과 막은 박테리아, 마이크로 플록 또는 총 현탁 고형물 (TSS)을 제거하는 데 사용되며 막 양쪽의 전형적인 압력은 1-3 bar입니다.
7. 역 삼투 막 흡입구에 대한 이산화 실리카 최대의 최대 허용 농도는 얼마입니까?
실리카의 최대 허용 농도는 온도, pH 값 및 스케일 억제제에 의존한다. 일반적으로, 스케일 억제제가없는 농축 물에서 최대 허용 농도는 100ppm이고, 일부 스케일 억제제는 240ppm의 농축 물에서 최대 농도의 실리카를 허용 할 수있다.
8. RO 막에 대한 크롬의 효과는 무엇입니까?
크롬과 같은 특정 중금속은 염소의 산화를 촉매하여 막 성능의 돌이킬 수없는 분해를 초래할 수 있습니다. 물에서 Cr 6+의 안정성이 Cr 3+의 안정성보다 나쁘기 때문입니다. 산화 가격이 높은 금속 이온은 더 큰 파괴적인 영향을 미치는 것으로 보입니다. 따라서, 크롬의 농도는 감소되거나 최소한 Cr 6+는 전처리 섹션에서 cr 3+로 감소되어야한다.
9. RO 시스템에는 일반적으로 어떤 전처리가 필요합니까?
일반적인 전처리 시스템은 큰 입자를 제거하기위한 거친 여과 (~ 80 미크론)로 구성되어, 차아 염소산 나트륨 및 기타 산화제를 첨가 한 다음 멀티미디어 필터 또는 설명 탱크를 통한 정밀도 여과 및 잔류 염소 및 기타 산화제를 감소시킵니다. 마지막으로, 보안 필터는 고압 펌프의 입구에 설치됩니다.
이름에서 알 수 있듯이 보안 필터의 기능은 큰 입자에 의한 고압 펌프의 임펠러 및 막 성분에 대한 우발적 인 손상을 방지하기위한 궁극적 인 안전 조치 역할을하는 것입니다. 고농도의 부유 입자를 갖는 수원은 일반적으로 지정된 입구 요구 사항을 충족시키기 위해 더 높은 수준의 전처리가 필요합니다. 경도 함량이 높은 수원의 경우 연화 또는 산 및 스케일 억제제를 사용하는 것이 좋습니다. 미생물 및 유기 함량이 높은 수원의 경우 활성화 된 탄소 또는 항 파울 링 멤브레인 성분도 필요합니다.
10. 삼투 역전을 역전시킬 수 있습니까? 바이러스 및 박테리아와 같은 미생물을 제거 할 수 있습니까?
Reverse osmosis (RO) is very dense and has a very high removal rate for viruses, bacteriophages, and bacteria, at least above 3log (removal rate>99.9%). 그러나, 많은 경우에, 막의 물 생산 측면에서 미생물 성장이 여전히 발생할 수 있으며, 이는 주로 어셈블리, 모니터링 및 유지 보수 방법에 의존한다. 즉, 미생물을 제거하는 시스템의 능력은 시스템 설계, 운영 및 관리가 막 성분 자체의 특성보다는 적절한 지 여부에 결정적으로 의존합니다.
11. 온도가 물 생산에 미치는 영향은 무엇입니까?
온도가 높을수록 물 생산량이 높아지고 그 반대도 마찬가지입니다. 더 높은 온도 조건에서 작동 할 때 동일한 물 생산을 유지하기 위해 작동 압력을 낮추고 그 반대도 마찬가지입니다.
12. 입자와 콜로이드 오염이란 무엇입니까? 측정 방법?
리버스 삼투 또는 나노 여과 시스템에서 입자와 콜로이드 오염이 발생하면 막의 물 생산에 심각하게 영향을 미치고 때로는 담수화 속도를 줄입니다.
콜로이드 파울 링의 초기 증상은 시스템 압력 차이의 증가입니다. 막 입구 수원의 입자 또는 콜로이드의 공급원은 종종 박테리아, 슬러지, 콜로이드 실리카, 철분 부식 제품 등을 포함하여 장소마다 다릅니다. 전처리 부분에 사용되는 약물은 폴리 알루미늄 및 염화 제 2 철 또는 양이온 폴리 엘레 전해질과 같은 약물을 유발할 수 있다면 분해 또는 중간 파일 파트에서 효과적으로 제거 할 수 없습니다.
13. 시스템 플러싱이없는 최대 허용 종료 시간은 얼마나 걸립니까?
시스템이 스케일 억제제를 사용하는 경우 수온이 20-38 정도 사이에있을 때 약 4 시간이 걸립니다. 20도 미만의 온도에서 약 8 시간; 시스템이 스케일 억제제를 사용하지 않으면 약 1 일이 걸립니다.
14. 역삼 투 순수한 물 시스템을 자주 시작하고 멈출 수 있습니까?
멤브레인 시스템은 연속 작동을 기반으로 설계되었지만 실제 작동에서는 항상 특정 주파수의 시작 및 종료가 있습니다.
막 시스템이 차단되면, 저압 플러싱을 위해 생산 된 물 또는 사전 처리 된 자격을 갖춘 물을 사용하여 고농도이지만 막 요소로부터 농축 된 물을 함유하는 스케일 억제제를 대체해야한다.
또한 구성 요소가 물을 잃고 건조 된 것처럼 비가 역적 손실이 발생할 수있는 것처럼 시스템의 물 누출과 공기 도입을 방지하기위한 조치를 취해야합니다.
셧다운이 24 시간 미만인 경우 미생물 성장을 방지하기위한 조치를 취할 필요가 없습니다. 다운 타임이 위의 규정을 초과하는 경우 보호 솔루션을 막 시스템의 시스템 보존 또는 시점 플러싱에 사용해야합니다.
15. 역삼 투 장비는 어떻게 처음으로 작동해야합니까?
파이프 라인의 공기를 멀리하기 위해 저압 및 저 유량 방법을 사용하여 장비는 파이프 라인에 공기가없는 경우에만 정상적으로 작동 할 수 있습니다. 첫째, 압력은 0. 2와 0. 4 MPa 사이에서 유지되어야합니다. 저압 플러싱 및 배기 가스를 사용하면 농축 및 생산 된 물을 하수구로 배출해야합니다.
작동 중에 압력이 빠르게 상승하면 막 원소에 공기가 존재하기 때문에 물 흐름과 방사형 충격력이 생성됩니다. 이 경우, 막의 외피가 파열되어 돌이킬 수없는 역삼 투 막을 초래할 수 있습니다.
처음으로 사용하면 멤브레인 작동의 압력을 {{{0}}}}}로 조정해야하며, 2 ~ 0.4MPA로, 역 삼투압 시스템이 시작할 때마다 낮은 압력으로 역 삼투압 막을 자동으로 플러시해야합니다.
16. 역삼 투시 시스템을 청소하고 소독하는 방법은 무엇입니까?
일반적으로 전문 기술자는 역삼 투시 시스템을 청소해야합니다. 고객이 직접 청소할 수 있습니까? 역삼 투 시스템을 청소 해야하는 경우 전문 제조업체 직원에게 연락하여 완료해야합니다. 다음 조건은 화학 청소를위한 전제 조건이며, 발생하면 청소를 수행 할 수 있습니다.
화학적 세정의 전제 조건은 시스템의 물 생산이 초기 또는 이전 청소 작업에 비해 5-10%만큼 감소한다는 것입니다. 시스템의 탈염 속도가 초기 또는 마지막 세척 작업에 비해 2. 5-5%만큼 감소하면. 시스템의 각 섹션 사이의 압력 차이가 1-2 초기 청소 작업의 시간 인 경우. 오랫동안 종료해야 할 때 보호 솔루션으로 시스템을 보호하십시오.